珠海172nm准分子灯晶圆清洗 电话咨询

在工业应用中，常用的准分子波长是 172 nm。其 7.23 eV 的能量足以直接裂解**分子的所有主要键，但碳和氧 (C=O) 之间的键和一些无机氧化物之间的键除外。这使其成为表面改性、光清洗、光固化的选择。
在紫外光谱区发射的光源广泛用于涉及光化学过程的技术，例如油墨、粘合剂、清漆和涂层的固化、光刻、电介质的紫外诱导生长、紫外诱导表面改性和清洁或材料沉积。非相干紫外源与激光源相比具有一些优势，因为它们成本低、照射面积大且易于使用，尤其是在设想大规模工业过程时。
汞灯(λ=253.7nm)是广泛传播的紫外线源，但其生产、使用和处理旧灯对人类健康和环境污染构成威胁。与常用的汞灯相比，准分子灯具有许多优点。准分子的一个特定特征是在基电子态中不存在强键。因此，可以从等离子体中提取高强度紫外线，而不会产生明显的自吸收。这使得可以有效地将沉积到活性介质的能量转化为紫外线。

172nm准分子灯的特点：
1、红外线发生量少，低温照射;
2、可瞬间点灯，节省待机准备时间;
3、放电管内不充入汞等有害物质，对环境不产生影响;
4、波长短，发光效率高，可产生高能光子，打破分子键，实现光清洗以及光改性；我们拥有好的设计团队，可根据您的现有设备定制功率、长度和直径，选取优良材料制造，质量严格把关。

172nm紫外线UV光清洗技术的应用范围:
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
2.石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂
3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；
4.真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗
5.在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
6.印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
7.大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。?
8.在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生
9.在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
10.磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果更好。
11.石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
12.在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
13.彩色滤光片生产中，光清洗后能洗净表面的**污染物。
14.敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高。
15.光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。
16.树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。
典型应用包括：
·表面的原子级清洗
·聚合物粘接
·去除**分子
·释放捕获的无机分子
·微流控制作
·微米/纳米构型
·紫外光固化
·表面化学改性
·表面
·表面氧化
·金属粘结准备……
.光酸化水处理,促进酸化水处理
.光重合反应

准分子灯的优点
准分子灯相对于其他紫外线和真空紫外线源的主要优点如下：
紫外线的高平均比功率（每立方厘米活性介质高达1瓦特）；
发射光子的高能量（从3.5到11.5eV）；
半高光谱全宽为2至15nm的准单色；
紫外线的高功率光谱密度；
为特定目的选择紫外线的xxx光谱波长；
由于多种工作准分子的同时激发，多波紫外线的可用性；
没有可见光和红外；
即时实现操作模式；
面发热低；
不含汞。
我们公司始终秉承“诚信、互助、共生、共赢”的经营理念，凭借实力、出众品质建立良好合作关系，我们真诚的希望能与广大新老客户一起携手共创美好未来！